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NEC東金將開始量產透磁率為100的無鹵防噪音薄膜

發布時間:2008-12-10 來源:日經BP社

產品特性:

  • 提高了噪音抑制效果
  • 無鹵防噪音薄膜
  • 有厚度在50μm~1mm之間的6種產品
  • 產生的反射波等副作用小、信號波形幾乎不變
  • 透磁率(μ)提高到了100

應用范圍:

  • 手機、筆記本電腦
  • 數碼相機等其他電子產品

NEC東金開發出提高了噪音抑制效果的無鹵防噪音薄膜“Busteraid EFX”,將于2008年12月開始量產。該薄膜為將其貼于噪音源頭及傳播路徑處即可抑制噪音的薄膜狀部件,共備有厚度在50μm~1mm之間的6種產品。具有產生的反射波等副作用小、信號波形幾乎不變等優點。面向手機、筆記本電腦以及數碼相機等電子產品。

此次,NEC把可有效抑制噪音的透磁率(μ)提高到了100。而該公司原來的高透磁率無鹵“Busteraid EFR”的透磁率為60。一般情況下,提高噪音抑制效果是通過提高磁性材料自身的特性或增加薄膜填充的磁性材料實現的。不過,含有的磁性材料越多薄膜就越容易變脆,因此加工和柔性方面存在難題。此次,為了實現把更多的磁性體添加進薄膜也不會損壞其柔性,該公司在提高磁性材料自身特性的同時,還提高了與樹脂的親和性。

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