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功率MOSFET線性區負溫度系數

發布時間:2018-11-29 責任編輯:xueqi

【導讀】功率MOSFET工作在線性區用來限制電流,VGS電壓低,通常在負溫度系數區,局部單元過熱導致其流過更大的電流,結果溫度更高,從而形成局部熱點導致器件損壞,這樣就形成一個熱電不穩定性區域ETI (Electro Thermal Instability),發生于VGS低于溫度系數為0(ZTC)的負溫度系數區。
 
1、線性區工作負溫度系數特性
 
功率MOSFET的轉移特性如圖1所示,VGS與電流ID曲線有一個溫度系數為0的電壓值5.5V,通常這個點就稱為零溫度系數點ZTC(Zero Temperature Coefficient)。VGS高于5.5V時,溫度越高電流越小,功率MOSFET的RDS是正溫度系數;VGS低于5.5V時,溫度越高電流越大,功率MOSFET的的RDS是負溫度系數。
 
功率MOSFET內部通常是由許多晶胞單元并聯而成,如圖2所示。通常假定芯片內部處于理想的熱平衡狀態,整個硅片的結溫完全一致。然而在實際條件下,硅片邊沿熱阻低,如圖3所示;由于硅片焊接的不均勻,各局部區的熱阻也不一致;此外,各局部區的閾值電壓VTH也不完全相同,它們通過的漏極電流,也就是(VGS-VTH)和跨導乘積,也不完全相同。上述因素導致局部區溫度也不一樣。
 
功率MOSFET工作在線性區用來限制電流,VGS電壓低,通常在負溫度系數區,局部單元過熱導致其流過更大的電流,結果溫度更高,從而形成局部熱點導致器件損壞,這樣就形成一個熱電不穩定性區域ETI (Electro Thermal Instability),發生于VGS低于溫度系數為0(ZTC)的負溫度系數區。
 
開關電源中功率MOSFET工作于開關狀態,在截止區和完全導通區之間高頻切換,由于在切換過程中要經過線性區,因此產生開關損耗。完全導通時,RDS處于正溫度系數區,局部單元的溫度增加,電流減小溫度降低,具有自動的平衡電流的分配能力。但是在跨越線性區時,會產生動態的不平衡。
 
對于熱插撥、負載開關、分立LDO的調整管等這一類的應用,MOSFET較長時間或一直在線性區工作,因此工作狀態和快速開關狀態不同。功率MOSFET工作在線性狀態,器件的壓降和電流都較大,功耗大,因此產生高的熱電應力,更容易導致熱不平衡的發生,從而形成局部熱點或局部電流集中,導致器件損壞;而且,也容易導致寄生的三極管導通,產生二次擊穿,從而損壞器件。
 
圖1:AOT462的轉移特性
 
圖2:功率MOSFET內部晶胞單元
 
圖3:芯片內部散熱差異
 
正溫度系數區主要處決于載流子的產生,負溫度系數區主要處決于載流子的移動,因此表現出來的溫度特性不同。
 
器件的失效處取決于脈沖時間、散熱條件和功率MOSFET單元平衡性能。通常,ZTC對應的電流越大,對應的VGS越大,就越容易發生熱不穩定性問題。而且ZTC直接和跨導相關,跨導增加,ZTC點向更高的VGS點移動。
 
相對傳統的平面工藝,新一代的工藝的MOSFET單元密度大,具有更大的跨導,因此更容易發生熱不穩定性問題。另外,高壓的MOSFET比低壓MOSFET,在ZTC點具有更低的電流和VGS,這是因為高壓MOSFET的epi層厚,單元的Pitch較低,而且摻雜也低,所以RDS隨溫度變化決定著在整個溫度范圍內跨導的變化,因此比低壓MOSFET發生熱不穩定性問題的可能性降低。
 
2、線性區工作的電勢、空穴和電流線分布
 
MOSFET的漏極導通特性前面論述過,其工作特性有三個工作區:截止區、線性區和‍完全導通區。其中,線性區也稱恒流區、飽和區、放大區;完全導通區也稱可變電阻區。
 
功率MOSFET在完全導通區和線性區工作時候,都可以流過大的電流。理論上,功率MOSFET是單極型器件,N溝道的功率MOSFET,只有電子電流,沒有空穴電流,但是,這只是針對完全導通的時候;在線性區,還是會同時存在電子和空穴二種電流,如圖4、圖5和圖6分別所示,完全導通區和線性區工作時,電勢、空穴和電流線分布圖。
 
從電勢分布圖,功率MOSFET完全導通時,VDS的壓降低,耗盡層完全消失;功率MOSFET在線性區工作時,VDS的電壓比較高,耗盡層仍然存在,此時由于在EPI耗盡層產生電子-空穴對,空穴也會產生電流,參入電流的導通。
 
空穴電流產生后,就會通過MOSFET內部的BODY體區流向S極,這也導致有可能觸發寄生三極管,對功率MOSFET產生危害。由空、電流線穴分布圖可見:線性區工作時產生明顯的空穴電流,電流線也擴散到P型BODY區。
 
圖4:完全導通(左)和線性區的電勢分布圖
 
圖5:完全導通(左)和線性區的空穴分布圖
 
圖6:完全導通(左)和線性區的電流線分布圖
 
功率MOSFET在線性區工作時,器件同時承受高的電壓和高的電流時,會產生下面的問題:
1、內部的電場大,注入更多的空穴。
2、有效的溝道寬度比完全導通時小。
3、改變Vth和降低擊穿電壓。
4、Vth低,電流更容易傾向于局部的集中,形成熱點;負溫度系數特性進一步惡化局部熱點。
 
功率MOSFET工作在線性區時,器件承受高的電壓,耗盡層高壓偏置導致有效的體電荷減小;工作電壓越高,內部的電場越高,電離加強產生更多電子-空穴對,形成較大的空穴電流。特別是如果工藝不一致,局部區域達到臨界電場,會產生非常強的電離和更大的空穴電流,增加寄生三極管導通的風險。
 
圖7為通用Trench和SGT屏蔽柵(分離柵)完全導通的電流線,圖7來源于網絡。新一代SGT工藝的功率MOSFET局部區域電流線更密急,更容易產生局部的電場集中,因此,如果不采取特殊的方法進行優化,很難在線性區的工作狀態下使用。
 
圖7:Trench(左)和SGT屏蔽柵電流線分布圖

來源:松哥電源
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