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石墨烯場效應管

發布時間:2023-05-17 來源:卓晴 責任編輯:wenwei

【導讀】隨著硅晶體管的尺寸和性能接近其物理極限,需要尋找替代材料來支持更多的新興技術, 其中一個具有希望的材料石墨烯。由于其出色的電氣、機械和熱性能,使得它最有可能成為場效應晶體溝道材料。


一、前言


本文后面根據 All about Circuits 中的一篇文章,介紹有關石墨烯場效應晶體管 (GFET)的構造、優勢以及現在遇到的挑戰。


隨著硅晶體管的尺寸和性能接近其物理極限,需要尋找替代材料來支持更多的新興技術, 其中一個具有希望的材料石墨烯。由于其出色的電氣、機械和熱性能,使得它最有可能成為場效應晶體溝道材料。


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▲ 圖1.1 石墨烯場效應管


二、GFET結構

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基本 GFET 是一種三端器件,在某些方面類似于傳統 FET。它由源極、漏極和頂柵或背柵組成。與硅基晶體管不同,GFET 在源極和漏極金屬電極之間存在一個薄的石墨烯通道,厚度通常為幾十微米。


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▲ 圖2.1 石墨烯場效應管結構

圖片來自于 BGT Materials


柵極控制石墨烯通道中的電子和空穴的產生與分布,從而控制通道的行為。


三、石墨烯特性

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石墨烯材料有著一些顯著特性,使其制作的 GFET 適用于電子、通信、化學、生物、能源和其他行業的應用。


石墨烯是一種二維單碳原子層材料,碳原子以二維蜂窩或六方晶格形式組成晶體結構。


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▲ 圖3.1 石墨烯材料結構


石墨烯材料的一些優越性能包括:


●   高導電性:石墨烯理論上可以100%的效率傳輸電能。石墨烯在室溫下電阻率非常低,超過硅硅本征遷移率的 100 倍。它在某些條件下表現出超導性(例如,以 1.1 度的角度扭曲雙層石墨烯或將其冷卻至絕對零以上 1.7°C)。


●   高導熱性:石墨烯是一種各向同性導體,可以向各個方向散熱,導熱性優于其他材料,包括金剛石、碳納米管和石墨。


●   光學性能好:石墨烯極薄,但仍可見,可吸收約2.3%的白光。(這對于 2D 材料來說是相當多的)。將這種能力與卓越的電性能相結合,使石墨烯成為適合制造高效太陽能電池的材料。


●   化學性能優異:石墨烯是一種惰性材料,不易與其他材料發生反應。然而,在某些條件下,它可以通過吸收一些其它分子和原子來改變其性質, 這使其適用于化學和生物傳感器等應用。


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▲ 圖3.2 石墨烯半導體硅片


四、GFET柵極三種結構

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GFET 有三種主要的柵極配置。典型的晶體管可以具有頂柵、全局背柵或兩者結合,如下圖所示。


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▲ 圖4.1 石墨烯三種柵極配置形式


與傳統的硅 FET 一樣,GFET 中的柵極控制電子或空穴在其通道中的流動。由于晶體管溝道只有一個原子厚,所有電流都在其表面流動,因此石墨烯 FET 具有非常高的靈敏度。


普通的硅器件使用電子或空穴兩者之一形成電流流動。然而,GFET 卻可以使用兩者(電子,空穴)形成電流, 所以GFET 器件具有雙極性特征,在負偏壓下通道采用空穴載流子傳導,在正偏壓下通道采用電子載流子傳導。


兩條傳導曲線在狄拉克點或電荷中性點相交,理論上應該為零電壓。在實踐中,實際的狄拉克點可能會根據摻雜、石墨烯表面的雜質水平、周圍大氣和其他條件而發生變化。例如,一些 p 型摻雜石墨烯 FET 器件的典型值為 10-40V。


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▲ 圖4.3 底部柵極GFET對應的傳輸特性以及狄拉克點


雖然背柵GFET最常見,但同時使用頂柵和背柵的四端GFET可以適合某些特殊應用。雙柵極 GFET 可以用兩個不同的電壓對通道進行偏置。


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▲ 圖4.4 雙柵極GFET結構


在典型應用中,雙柵極 FET 使用兩個柵極偏置來控制通道的電荷濃度。


GFET的優勢


●   石墨烯優異的導電性和導熱性使其工作時的電能損耗更低、散熱性能更好 所以基于石墨烯的晶體管有可能獲得更大的功率器件。


●   一個原子厚的結構意味著整個通道都在表面上。因此,在傳感器應用中,通道直接暴露于被測材料或環境, 提高了器件的敏感度。生物和化學中具有廣泛的應用。比如它可以檢測在其石墨烯通道表面上的單個分子。


●   使用薄的頂柵絕緣體材料可以改善 GFET 參數,例如開路增益、正向傳輸系數和截止頻率。這使得 GFET 適合應用在高頻信號處理方面。從理論上講,GFET的開關頻率可以接近太赫茲范圍, 這比硅基 FET 可以達到的速度快幾倍。


●   傳統半導體材料的晶格結構存在一些局限性,高頻下功耗增加, 而石墨烯的六方晶格結構缺陷少、電子遷移高率等因素提高了在太赫茲頻率下的性能。


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▲ 圖5.1 石墨烯特性檢測


五、GFET 挑戰

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石墨烯 FET 是硅基晶體管的潛在替代品, 但要形成商業應用還需要克服一下三個方面的困難:


●   帶隙限制

●   制造成本

●   飽和


1、缺乏帶隙

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盡管 GFET 是一種快速高效的晶體管,但它沒有帶隙, 它的價帶和導帶在零偏壓下相遇,此時石墨烯表現得像金屬。


硅等半導體材料兩個能帶被一個間隙隔開,在正常條件下表現為絕緣體。電子需要一些額外的能量才能從價帶躍遷到導帶。在 FET 中,偏置電壓使電子從價帶躍遷到導帶。


不幸的是,因GFET 中沒有帶隙,因此很難關閉晶體管,因為它不能充當絕緣體。無法將其完全關閉。GFET的開/關電流比約為 5,這對于邏輯操作來說非常低, 這使得GFET無法直接應用在數字開關電路中。在模擬電路中, GFET工作在變阻區時就沒有問題了,所以GFET 適用于放大器、混合信號電路和其他模擬應用。


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▲ 圖6.1 石墨烯的E-k圖。其中放大部分顯示了狄拉克處的零帶隙


現在很多針對石墨烯帶隙的問題提出相應的解決方案,包括負電阻方法和自下而上的合成制造技術等技術。


制作工藝復雜昂貴

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石墨烯晶體管的制造工藝不同于硅器件,需要一種精密、復雜且成本高昂的方法。


GFET 制造過程包括將石墨烯層沉積到硅晶片上,然后在末端添加金屬觸點。通常使用化學氣相沉積來合成石墨烯層。然后通過分層工藝轉移合成的石墨烯并將其沉積到目標 SiO2 基板上。


其他步驟包括使用剝離工藝或其他合適的方法構建柵極電介質、柵極接觸,以及最后的接觸電極。


傳統做法通常會在石墨烯通道材料中引入雜質和缺陷。有時,除了改變摻雜水平外,還會導致載流子散射并降低電氣性能。具體問題包括狄拉克點位移和低流動性。


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▲ 圖6.2 石墨烯場效應管在太赫茲高頻下的信號調制


模擬電路中容易飽和

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影響GFET 推廣的另一個挑戰是電流飽和度不足,這會阻止晶體管在 RF 應用中所能達到最大電壓增益和振蕩頻率。


然而,制造商可以通過優化絕緣頂柵的介電材料來克服這個問題。通常,良好的介電柵極材料可以更好地控制石墨烯溝道中的載流子,從而提高性能。


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▲ 圖6.3 GFET在放大模擬信號


參考資料


[1] TRANSISTOR CASEIR?O ! realmente ficou PODEROSO TBJ e MOSFET?: https://www.youtube.com/watch?v=fK3v6JZpnGo



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